Linia utleniania elektroplatacji wysokiej częstotliwości zasilania elektrycznego z ponownym wykorzystaniem ścieków RO

Opis sprzętu:

1. Przepływ procesu

Karmienie → Wstępne rozdzielczość (40-60 ℃ Roztwór alkaliczny) → Etching alkaliczny (50-60 ℃ NaOH) → Neutralizacja (roztwór kwasu azotowego) → anodowanie (H₂SO₄ Elektrolit) → Farbowanie → Uszczelnienie → Suszanie (60-80 ℃ Gorące powietrze) → Uwolnienie.

2. System pomocniczy

1. System filtracji krążenia

Pompa magnetyczna + element filtra PP (precyzyjna 5 μm), szybkość recyklingu roztworu spalinowego ≥ 95%, zmniejsz osadzanie zanieczyszczeń.
2. System leczenia ochrony środowiska

Kwasowa mgła oczyszczająca: Zamknięty zbiornik + roztwór alkaliczny wieża sprayowa, wydajność oczyszczania mgły kwasowej ≥ 90%, zgodnie ze standardami ROHS.

Ponowne użycie ścieków: system odwrotnej osmozy, szybkość ponownego użycia ścieków ≥ 80%, wartość dorsza ≤ 50 mg/l.
‌3. System zasilacza‌
Zasilanie o wysokiej częstotliwości (dokładność wyjściowa ± 0,1A/DM²), twarde utlenianie wymaga zasilania impulsowego (cykl pracy 10%-30%) w celu zmniejszenia naprężenia wewnętrznego.

3. System sterowania‌
‌PLC+Screen dotykowy‌: Podejmowanie wielu zestawów parametrów procesu (czas utleniania 10-60 minut, temperatura -5 ~ 30 ℃), alarm awaryjny, operacja przełączania szczeliny i rejestrowanie danych procesowych.
‌ Inteligentne monitorowanie ‌: Zbieranie gęstości prądu, temperatury, wartości pH i innych parametrów, szybkość fluktuacji procesu <1%.

4. Parametry techniczne‌

5. Zalecenia dotyczące wyboru sprzętu
Małe części/wiele odmian: Priorytetyzuj linię produkcyjną pojedynczego haka, która obsługuje szybką zmianę modelu (czas zmiany szczeliny ≤ 15 minut).
Duża partia/wysoka twardość: Użyj dedykowanej twardej linii anodowania, wyposażonej w niezależną jednostkę chłodniczą (-5 ℃ Kontrola niskiej temperatury) i zasilacz impulsu.

Główne struktury i komponenty:

I. Struktura i skład rdzenia‌
‌1. Jednostka wstępna ‌
‌ Zbiornik zbiornika ‌: Użyj roztworu alkalicznego (stężenie NaOH 40-60 g/L), aby usunąć smar na powierzchni aluminium przez ultradźwiękowe lub mieszające powietrze, aby zapewnić jednolitość kolejnej folii tlenkowej.
‌Alkali zbiornik trawienia‌: Wyposażony w stałą temperaturę (50-60 ℃), roztwór NaOH o wysokim stężeniu (50-100 g/l) rozpuszcza warstwę tlenku powierzchniowego i zanieczyszczenia materiału aluminiowego w celu kontrolowania chropowatości powierzchni ≤ra 0,8 μm.
‌ Neutralizacyjna zbiornik: kwas azotowy lub roztwór kwasu siarkowego neutralizuje resztkowy roztwór alkaliczny, aby zapobiec wtórne zanieczyszczenie zbiornika utleniania.
‌2. Jednostka utleniania anodowego‌
‌ Zbiornik tlenia ‌: Elektrolit kwasu siarkowego (stężenie H₂So₄ 150-200 g/L), płyta katodowa stopu tytanowego i anoda aluminiowa tworzą obwód elektrolityczny, gęstość prądu wynosi 100-200a/m² i obsługuje tworzenie folii tlenkowej o grubości filmu 5-50 μm.
Twarde utlenianie wymaga środowiska niskiej temperatury (-5 ~ 10 ℃), wyposażonego w rurki grzewcze tytanowe i wymienniki ciepła płyt oraz fluktuacje temperatury ≤ ± 1 ℃.
‌ System zasilania ‌: DC lub zasilacz DC o wysokiej częstotliwości (dokładność wyjściowa ± 0,1A/DM²), twarde utlenianie wymaga trybu impulsów (cykl pracy 10%-30%) w celu zmniejszenia naprężenia wewnętrznego warstwy filmu.
‌3. Jednostka po przetwarzaniu‌
‌ Boyeing Tank‌: stosuje się barwniki organiczne/nieorganiczne, a system filtracji krążący (element filtra 5 μm) zapewnia jednorodność farbowania (błąd ≤ ± 5%).
Zbiornik zbiornika ‌: Uszczelnienie soli niklu (temperatura 95-100 ℃) lub proces uszczelnienia wody wrzący w celu poprawy odporności na korozję warstwy tlenku (test Cass ≥48 godzin).
‌4. System transmisji i pozycjonowania‌
‌Ghantry Crane‌: Napęd silnikowy regulacji prędkości konwersji częstotliwości, prędkość pozioma 4-40 m/min, obciążenie pojedynczym haczykiem ≤500 kg, wspornik pionowych ruchów i wahania.
‌ Usuwanie urządzenia ‌: czujnik fotoelektryczny współpracuje z systemem identyfikacyjnym RFID, a dokładność pozycjonowania wieszaka wynosi ≤ ± 0,5 mm, aby zapewnić synchronizację procesu.
‌5. System sterujący ‌ ‌PLC Moduł sterujący‌: Westorowanie wielu zestawów parametrów procesu (czas utleniania 10-60 minut, temperatura -5 ~ 30 ℃), obsługuje alarm błędów i rejestrowanie danych procesowych.
‌ Monitorowanie czasu w czasie: Zbieraj parametry, takie jak gęstość prądu, temperatura, wartość pH i szybkość fluktuacji procesu <1%.

‌Ii. System pomocniczy ‌ ‌

1. System filtracji krążenia‌ pompa magnetyczna + element filtra PP (precyzyjna 5 μm), szybkość recyklingu roztworu posiadacza ≥95%, zmniejsz osadzanie zanieczyszczeń.
‌2. System obróbki ochrony środowiska - Oczyszczanie mgły, zamknięte zbiornik + alkaliczny roztwór roztworu wieża rozpylająca, wydajność oczyszczania mgły kwasowej ≥90%, zgodnie ze standardami ROHS.
‌ WasteWater Ponowne użycie ‌ RO System odwróconej osmozy osiąga szybkość ponownego użycia ścieków ≥80%, wartość dorsza ≤50 mg/l.

Cechy:

1. Wysoka wydajność kosztów: w oparciu o strategię pozycjonowania i rozwoju produktu klienta, a także w przystępnej cenie ekonomicznej jako podstawa, osiągamy najlepsze wyniki kosztów.
2. Zaawansowana i skrupulatna koncepcja projektowania sprzętu, wraz z wysoce zautomatyzowanym sprzętem przemysłowym, prezentuje wizerunek nowoczesnego i zaawansowanego przedsiębiorstwa.
3. Ma wysoką zdolność adaptacyjną, spełniając obecne wymagania produkcyjne i rezerwowanie pomieszczenia na rozwój, biorąc pod uwagę potrzeby zwiększonej produkcji i lepszej jakości w przyszłości.
4. Zgodność jakości ściśle przestrzega systemu zarządzania jakością ISO900, przy czym każdy minutowy szczegół instalacji całego sprzętu jest ściśle kontrolowany.